在半導體領域,光刻機對大家來說并不陌生,因為光刻機在芯片制造中有著不可撼動的地位,所以光刻機在成本和核心技術方面都讓很多[敏感詞]向往。不過,今天給大家講的是另一種制造芯片的專用設備,就是光刻機的兄弟蝕刻機。說起蝕刻機,很多人不知道它是什么,但其實蝕刻機的作用并不比光刻機差。即使是光刻機,在芯片制造過程中也需要蝕刻機的輔助。兩者相輔相成,才能做出完美的芯片。可見,蝕刻機在芯片制造領域也有著非常高的地位。中國自主研發的蝕刻機有多厲害?
據相關資料顯示,關于中國自主研發蝕刻機的消息早是2017年4月從研發半導體的中微公司傳出,稱中微公司攻克了5 nm工藝的蝕刻機。這個消息被報道后,立刻在國內外半導體行業激起千層浪,因為蝕刻機不僅價格昂貴,而且核心技術和工藝極其先進,所以國產蝕刻機的問世對于中國半導體行業來說無疑是一枚重磅炸彈。現階段,中威公司在調試完5納米蝕刻機后,已經通過了TSMC的認證,而TSMC在量產5納米芯片時,生產線使用的部分蝕刻機將由中威公司提供,相關產品將刻有“中國制造”字樣。按照中微公司的計劃,后續將再次升級5 nm蝕刻機,打造世界上[敏感詞]的紫外光刻機,使生產5 nm芯片時,芯片精度與蝕刻機高度一致。值得一提的是,目前中微公司已經積累了一定的3 nm芯片技術,所以從側面可以推斷中微公司很可能已經開始制造3 nm蝕刻機。
那么蝕刻機是怎么工作的呢?其實在芯片制造的過程中,首先會用光刻機將特定的高精度電路圖復制到硅片上,然后用蝕刻機根據這個圖進行施工,在相關區域蝕刻出標記點,只留下芯片重要的部分。其實這個原理就是蝕刻機蝕刻的是前面部分的硅和化合物,后面部分的金屬和電解質。另外,蝕刻機中的蝕刻工藝現階段可分為等離子干法蝕刻和濕法蝕刻,而這兩種蝕刻技術又可細分為三類,即難度[敏感詞]的硅蝕刻、難度中等的介質蝕刻和加工工藝簡單的金屬蝕刻。目前中微公司的半導體主要從事介質刻蝕和加工技術金屬刻蝕,而難的硅刻蝕需要精密的極紫外光刻機。現階段中微公司還在攻關中,但僅僅依靠難度適中、工藝簡單的刻蝕技術,就足以讓中微公司在半導體行業處于全球先進水平。在過去的10年里,中國中微公司先后承擔并成功完成了三臺蝕刻機的研發;半導體領域65-45 nm、32-22 nm、22-14 nm的d項目,都取得了巨大的成功。雖然現在也出了5納米的蝕刻機,在半導體領域也確實步入了[敏感詞]水平,但是因為蝕刻機和光刻機是相輔相成的,所以5納米的蝕刻機只是在國產芯片領域邁出了關鍵的一步。另外,由于西方[敏感詞]對中國的芯片出口和芯片制造有一定的封鎖,中國的芯片制造整體水平還很落后,未來要想真正趕上西方[敏感詞]還有很長的路要走。